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集成电路版图设计 (2008 年度畅销榜NO.2280 )

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原书名: IC Mask Design Essential Layout Techniques
原出版社:
作者: [美]Saint C. & Saint J. /著
出版社: 清华大学出版社
书号: 7302077304 出版日期: 开本: 152*228 1/32 页码: 445 版次: 2004年1月第1版第1次印刷 点击: 4861
所属类别: 硬件/嵌入式开发综合
市场价: ¥58.00     会员价:¥52.20
现在您可以轻轻松松,兴致盎然地学习和掌握集成电路版图设计了!本书作者Christopher Saint,IBM的顶尖讲师之一,以轻松幽默的文笔为读者提供了一本图文并茂、实用易读的版图设计参考书,自下而上,由浅入深地构造了设计理念,毫无保留地讲述了从最初版图设计到最终仿真的方方面面。内容覆盖了模拟电路、数字电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路的版图设计技术,讨论了版图设计中有关我匹配、寄生参数、噪声、布局、验证、封装等问题及数据格式,最后还提供了两个实际的例子,CMOS放大器与双极型混频器的版图设计。
这些精心组织的材料不仅提供了版图设计一步一步的细节指导,有利于读者深刻理解版图设计的全过程,而且也展示了在版图设计中的关键技术,使读者可真接的应用于日常的工作中。无论对于经验丰富的专业人士或是新手,无疑都会开阔您的眼界、拓展您的思路、启发您的创新意识,从而更能激起您对于版图设计工作,一项极有价值工作的热爱。

用户评论

Holdfast 说:
I think the book is interesting and good!
发布于2005-3-24 21:28:25
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